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作為先進的納米壓印設備，EVG7300紫外光納米壓印機憑借其300毫米晶圓處理能力、300納米級對準精度及模塊化設計，成為半導體、光學元件及生物醫療領域的關鍵制造工具。本文從設備結構、操作流程、關鍵參數調控及維護要點四方面，解析其高效使用的...
在半導體晶圓加工、精密機床主軸跳動檢測、航空航天部件形變監測等高精度制造場景中，位移測量的精度直接決定產品良率與設備穩定性。Microsense作為電容式位移傳感器品牌，通過被動式與主動式兩大探頭技術路線，構建起從亞納米級到毫米級、從靜態定位到動態跟蹤的全場景測量體系，成為精密制造領域的“隱形標準”。一、被動式探頭：線性穩定的“基石”以48XX、88XX及Mini系列為代表的被動式探頭，采用非接觸式電容感應原理，通過優化探頭結構與屏蔽環設計，實現測量帶寬與穩定性的雙重突破。其...
在半導體制造、光學薄膜研發及精密涂層檢測等領域，薄膜厚度與光學參數的精準測量是保障產品質量與性能的關鍵環節。Thetametrisis薄膜厚度測量儀（如FR-Scanner系列）憑借其高度集成的光學模塊設計，成為這一領域的標準設備——其光學模塊不僅容納了所有核心光學部件，更通過精密協同實現了測量精度、穩定性與功能擴展性的全面突破。一、光學模塊的核心構成：全鏈路光學部件集成Thetametrisis薄膜厚度測量儀的光學模塊是一個高度集成的“光學中樞”，內部整合了分光計、復合光源...
白光干涉儀作為精密測量領域的“光學顯微鏡”，憑借其納米級分辨率和非接觸式測量特性，成為半導體、光學加工、微機電系統（MEMS）等領域的核心檢測工具。其核心原理基于光的干涉現象，通過解析干涉條紋的微小變化，實現表面形貌的亞納米級重構。工作原理：光程差的精密解碼白光干涉儀通過分光棱鏡將光源分為兩束相干光：一束照射被測樣品表面，另一束投射至參考鏡。兩束反射光重新匯聚后產生干涉，形成明暗相間的條紋。由于白光為多色光，其干涉條紋僅在零光程差（ZOPD）附近呈現高對比度，這一特性使儀器能...
在材料科學與精密制造領域，ThetaMetrisis膜厚測量儀憑借其良好的測量精度和智能分析能力，成為薄膜厚度檢測的行業標準。本文將詳細解析該設備從安裝到操作的全流程，揭示其精準測量的科學原理。一、系統安裝與調試設備安裝需選擇防震臺面，確保儀器水平放置。連接電源線后，通過USB或專用接口與計算機建立數據鏈路。初次使用時需進行環境校準：將標準樣品置于樣品臺，通過軟件界面啟動自動校準程序，系統會根據反射光譜特征建立基準數據庫。環境控制尤為重要，實驗室溫度應保持20-25℃，濕度低...
在半導體制造、光學鍍膜、新能源材料等精密工業領域，薄膜厚度的精準控制直接決定產品性能。岱美儀器技術服務（上海）有限公司憑借二十余年技術積淀，構建起覆蓋機械接觸、光學干涉、光譜反射三大技術路徑的薄膜厚度測量體系，為行業提供從實驗室研發到生產線量測的全場景解決方案。1.機械接觸式測量：納米級精度的“觸覺感知”針對金屬鍍層、硬質涂層等場景，岱美采用高精度探針式臺階儀。其核心部件為金剛石針尖探針，通過垂直位移傳感器記錄探針在膜層表面的微米級起伏。例如在半導體引線框架的鍍金層測量中，設...